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威特雅是一站式電子半導(dǎo)體水處理解決方案工程交鑰匙服務(wù)商。針對(duì)電子半導(dǎo)體行業(yè)水質(zhì)特點(diǎn)，水處理系統(tǒng)通過組合過濾系統(tǒng)+先進(jìn)的特種膜分離系統(tǒng)+EDI系統(tǒng)+拋光混床系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)水資源的高效處理和回用，幫助企業(yè)提高資源循環(huán)使用的經(jīng)濟(jì)效益。

電子半導(dǎo)體行業(yè)為什么需要水處理設(shè)備？

電子半導(dǎo)體產(chǎn)品的生產(chǎn)過程中對(duì)水質(zhì)的要求很高。半導(dǎo)體材料的制造涉及到精密的化學(xué)反應(yīng)和物理過程，水中的雜質(zhì)、離子、微生物等可能對(duì)產(chǎn)品造成污染，影響產(chǎn)品的性能、穩(wěn)定性和可靠性。因此，需要使用水處理設(shè)備去除水中的各種雜質(zhì)，保證生產(chǎn)用水的純凈度。

初步吸附過濾、反滲透凈化和樹脂離子交換等，有效去除水中的各種雜質(zhì)、離子和微生物，確保生產(chǎn)出電阻率極高的超純水。這種超純水被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造的清洗、蝕刻、制膜和摻雜等關(guān)鍵工藝環(huán)節(jié)，是保障半導(dǎo)體產(chǎn)品性能和質(zhì)量的關(guān)鍵因素。

電子半導(dǎo)體行業(yè)用到哪些水處理設(shè)備？

1. 多介質(zhì)/活性炭過濾系統(tǒng)：

多介質(zhì)過濾器通常作為水處理的初步階段，其通過不同介質(zhì)的組合，有效去除水中的懸浮物、膠體、顆粒物等雜質(zhì)，為后續(xù)處理工藝提供較為清潔的水源。

活性炭過濾器則主要用于去除水中的有機(jī)物、異味、色素等雜質(zhì)?；钚蕴烤哂袕?qiáng)大的吸附能力，能夠吸附并去除水中的這些污染物，從而進(jìn)一步提高水質(zhì)的純凈度。

2. 超濾系統(tǒng)：

首先，在清洗工藝中，超濾膜能夠有效去除水中的顆粒和離子，作為高質(zhì)量超純水系統(tǒng)的預(yù)處理工藝。這種超純水被用于清洗半導(dǎo)體器件和設(shè)備，以確保產(chǎn)品表面的清潔度，避免污染物對(duì)產(chǎn)品性能和可靠性的影響。

其次，超濾技術(shù)也常用于工藝液體的制備。在半導(dǎo)體制造過程中，需要使用各種工藝液體，如酸、堿、有機(jī)溶劑等。威特雅超濾膜能夠?qū)@些液體進(jìn)行過濾和凈化，去除其中的雜質(zhì)和顆粒物，確保液體的純度和質(zhì)量符合生產(chǎn)要求。

此外，在設(shè)備的冷卻水循環(huán)中，超濾技術(shù)也發(fā)揮著重要作用。半導(dǎo)體制造設(shè)備在運(yùn)行過程中會(huì)產(chǎn)生大量熱量，需要冷卻水進(jìn)行散熱。超濾膜能夠去除冷卻水中的顆粒和離子，防止雜質(zhì)對(duì)設(shè)備造成損害，確保設(shè)備的正常運(yùn)行和產(chǎn)品的穩(wěn)定性。

3. 反滲透膜系統(tǒng)：

反滲透膜在半導(dǎo)體行業(yè)中主要用于超純水制備的工藝步驟。在電子半導(dǎo)體制造過程中，超純水被廣泛應(yīng)用于清洗硅片、芯片等關(guān)鍵部件，可以有效去除表面的微粒和有機(jī)物，減少產(chǎn)品缺陷率。反滲透膜能夠提供穩(wěn)定的、低張力的去離子水，滿足半導(dǎo)體行業(yè)對(duì)水質(zhì)的高要求。

此外，反滲透膜技術(shù)同樣能夠提供高質(zhì)量的清洗用水，保證元器件的可靠性和穩(wěn)定性。通過利用反滲透膜的特性，可以實(shí)現(xiàn)對(duì)水質(zhì)的精確控制，滿足電子半導(dǎo)體制造過程中對(duì)超純水的嚴(yán)格需求。

4. EDI系統(tǒng)：

EDI系統(tǒng)，即電去離子系統(tǒng)，在半導(dǎo)體行業(yè)中具有廣泛的應(yīng)用。它主要被用于超純水制備的工藝步驟中。

在半導(dǎo)體制造過程中，超純水被用于多個(gè)關(guān)鍵工藝步驟，如清洗硅片、芯片等關(guān)鍵部件，以及作為其他工藝液體的制備基礎(chǔ)。EDI系統(tǒng)能夠通過離子交換膜技術(shù)和離子電遷移技術(shù)，有效地去除水中的離子和其他雜質(zhì)，從而制備出高純度的超純水。

具體來說，EDI系統(tǒng)能夠去除水中的離子，如鈉、鈣、鎂等金屬離子以及氯、硫酸根等陰離子，使水的電導(dǎo)率極低，滿足半導(dǎo)體制造過程中對(duì)水質(zhì)的高要求。同時(shí)，由于其高效的離子去除能力，EDI系統(tǒng)還能夠減少傳統(tǒng)離子交換過程中所需的再生頻率和化學(xué)品消耗，降低運(yùn)營成本和環(huán)境影響。

5. 拋光混床系統(tǒng)：

拋光混床在半導(dǎo)體行業(yè)中主要被用于超純水的制備工藝步驟。

芯片洗滌：制造芯片的過程中，會(huì)經(jīng)過化學(xué)/物理沉淀、腐蝕、烘烤等工藝，這些過程會(huì)產(chǎn)生各種雜質(zhì)。為了去除這些雜質(zhì)，保證芯片性能，需要使用超純水進(jìn)行洗滌。

制備半導(dǎo)體材料：超純水能夠?qū)雽?dǎo)體材料表面的雜質(zhì)去除干凈，保證半導(dǎo)體材料純度的要求，從而有效提高半導(dǎo)體芯片的性能和可靠性。

在這些工藝步驟中，超純水用于清洗半導(dǎo)體器件和設(shè)備，確保產(chǎn)品表面的清潔度，避免污染物對(duì)產(chǎn)品性能和可靠性的影響。拋光混床系統(tǒng)能夠有效地去除水中的離子和有機(jī)物，確保水質(zhì)滿足半導(dǎo)體行業(yè)的高標(biāo)準(zhǔn)。

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